1月29日（水）～31日（金）東京ビッグサイトにて開催された国際ナノテクノロジー展（https://www.nanotechexpo.jp/）に出展しました。
本展示会は、研究開発の重要な共通基盤技術であるナノテクノロジーを軸に未来技術の社会実装を探求する場として、革新的な材料や次世代デバイスが集結、研究開発の事業化とイノベーション共創を実現する展覧会です。

本学より、工学部 電気電子情報工学科 草場光博 教授が「ナノ秒紫外レーザー有機ナノドット構造を付与した機能性材料開発」を出展し、材料表面にナノ秒紫外レーザーを照射してナノドット構造を均一かつ高密度に形成させ、ナノドット構造の先端に圧縮応力を付与させる技術を紹介しました。
今回、出展した研究成果は、レーザー加工の基盤となる技術であり、シリコン太陽電池の効率を大幅に向上することが期待できることを広くPRしました。また、出展者セミナーに登壇し、広くシーズ提供を行いました。
展示サポートとして、研究室の学生2名および産業研究所事務室が参加しました。

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（１）https://newswitch.jp/p/42528
シリコン太陽電池を高効率化、レーザーでナノドット構造形成に成功｜ニュースイッチ by 日刊工業新聞社

（２）/fc/topics/eic/18631/　
電気電子情報工学科草場研究室の研究成果がレーザー研究の表紙に掲載されました | 工学部 電気電子情報工学科 | 大阪産業大学

（３）/fc/topics/eic/17928/
【プレスリリース】本学草場教授研究室の研究グループが英国の物理学会誌「Journal of Physics D: Applied Physics」にオンライン公開されました | 工学部 電気電子情報工学科 | 大阪産業大学